Tiga Karakteristik Utama Teknologi Deposisi Uap

Dibandingkan dengan permukaan, penyemprotan termal, pelapisan, pelapisan listrik, pelapisan tanpa listrik, dan teknologi pelapisan permukaan lainnya, teknologi pengendapan uap memiliki tiga karakteristik utama berikut.

① Film deposisi uap biasanya terbuat dari logam berkualitas tinggi dan film majemuk. Untuk meningkatkan kinerja layanan produk, film senyawa logam, paduan atau karbon, nitrogen, boron, oksigen, dan silikon biasanya dibuat pada permukaan bahan logam atau non-logam dengan pengendapan uap. Membran ini telah banyak digunakan di berbagai bidang. ② Film deposisi uap adalah film yang umumnya tipis. Dalam rekayasa, ketebalan film yang disiapkan oleh deposisi uap sebagian besar dari sepersepuluh mikron hingga puluhan mikron. Film TiN emas yang digunakan untuk dekorasi seringkali berukuran beberapa mikron, dan ketebalan lapisan alat TiN yang membutuhkan ketahanan aus yang tinggi seringkali beberapa mikron. Meskipun film ini tipis, mereka dapat sangat meningkatkan ketahanan aus, ketahanan korosi, ketahanan suhu tinggi, dan sifat lain dari benda kerja. Deposisi uap adalah proses dasar dari produk optik, elektronik, informasi, dan teknologi tinggi lainnya. ③ Film deposisi uap sebagian besar diperoleh pada derajat dan suhu vakum tertentu. Ukuran benda kerja dibatasi oleh ukuran ruang vakum; Kinerja perlakuan panas dan akurasi bentuk benda kerja dipengaruhi oleh suhu pengendapan. Suhu benda kerja metode PVD sebagian besar dalam beberapa ratus derajat Celcius, sedangkan suhu benda kerja metode pengendapan uap kimia sebagian besar 80 ~ 1200 derajat Celcius. Karena kebutuhan untuk dilengkapi dengan vakum, pemanas, kontrol, dan sistem lainnya, investasi pada peralatan pelapis vakum besar yang lebih canggih umumnya lebih tinggi.

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis alat, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, garis pelapis vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, Email:iks.pvd@foxmail.com