Deposisi Penguapan

Deposisi Penguapan

Prinsip: Dengan memanaskan bahan target (wujud padat) di atas titik lelehnya, bahan tersebut menguap menjadi atom/molekul gas. Partikel gas terbang bebas dalam lingkungan vakum dan akhirnya mengembun dan mengendap di permukaan substrat bersuhu rendah untuk membentuk film. Jenis segmen: penguapan resistansi: melalui kawat resistansi yang memanaskan bahan target dengan titik leleh rendah (seperti aluminium, emas), peralatan sederhana, namun suhu pemanasan terbatas, cocok untuk film logam dengan titik leleh rendah. Penguapan berkas elektron: menggunakan pemboman berkas elektron berenergi tinggi, bahan target langsung memanaskan bahan target internal (untuk menghindari kontaminasi wadah), penguapan bahan dengan titik leleh tinggi (seperti tungsten, molibdenum, oksida), film tipis dengan kemurnian lebih tinggi, adalah kontak logam pada lapisan semikonduktor, lapisan elektroda dari teknologi yang umum digunakan.

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis peralatan, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, jalur pelapisan vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mail: iks.pvd@foxmail.com