Mengambil IPhone14 Sebagai Contoh, Mari Kita Bicara Tentang Kekosongan dalam Proses Pengembangan dan Manufaktur Telepon

Mengambil iPhone14 sebagai contoh, mari kita bicara tentang "kekosongan" dalam proses pengembangan dan pembuatan ponsel

Sebelum berbicara tentang seri iPhone 14, mari kita bicara tentang dua metode pelapisan PVD utama, pelapisan sputter vakum, dan pelapisan penguapan vakum, yang sebagian besar tercakup dalam makalah ini.

● Bahan target pelapis sputtering vakum memiliki karakteristik kemurnian tinggi, kerapatan tinggi, banyak komponen, butiran seragam, dan sebagainya. Ini umumnya terdiri dari target kosong dan backplane. Target kosong milik bagian inti dari bahan target sputtering, yang merupakan bahan target pemboman berkas ion berkecepatan tinggi. Setelah billet target dipengaruhi oleh ion, atom permukaan tergagap dan disimpan pada substrat untuk membuat film elektron. Karena kekuatan logam dengan kemurnian tinggi yang rendah, bahan target sputtering perlu menyelesaikan proses sputtering di lingkungan mesin bertegangan tinggi dan vakum tinggi.

● Lapisan evaporasi vakum mengacu pada teknologi untuk mendapatkan film tipis dalam kondisi vakum dengan menguapkan bahan dengan memanaskan sumber penguapan sehingga terdeposisi pada permukaan bahan substrat. Zat yang menguap disebut bahan menguap. Sistem pelapisan penguapan vakum umumnya terdiri dari tiga bagian: ruang vakum, sumber penguapan atau perangkat pemanas penguapan, penempatan substrat, dan perangkat pemanas substrat. Untuk menguapkan bahan yang akan diendapkan dalam ruang hampa, panas penguapan perlu disediakan untuk membawa bahan yang diuapkan ke suhu yang cukup tinggi untuk menghasilkan tekanan uap yang diinginkan.

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis alat, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, garis pelapis vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, Email:iks.pvd@foxmail.com