Bahan PVD
Dec 28, 2017| Bahan Deposisi Uap PVD atau Fisik terdiri dari berbagai logam yang dapat digunakan pada magnetron sputtering untuk membuat film dan pelapis tipis. Angstrom Sciences juga menawarkan pilihan material vakum vakum kemurnian tinggi termasuk:
Aluminium Tembaga Aluminium Tembaga Aluminium Tungsten Aluminium Nitrida Aluminium oksida Silikon Aluminium Antimony Barium Barium ferit Barium Fluorida Barium Strontium Titanate Barium Titanate Barium oksida Berilium Bismut Bismuth Lanthanum Titanium Bismuth Strontium Kalsium Bismuth Strontium Titanate Bismuth Titanium Oxide Bismuth Trioksida Boron Boron Carbide Boron Nitrida Kadmium Fluorida Kadmium Oksida Cadmium Selenide Kadmium Sulfida Kadmium Telluride Kalsium fluorida Kalsium oksida Kalsium silikat Kalsium Titanate Karbon (Grafit) Baja karbon Cerium Cerium Oksida Kromium Kromium borida Kromium Oksida Kromium Silisida Kobalt Kobalt kromium Cobalt Oxide Silisida kobalt Zirkonium kobalt Tembaga | Tembaga Sulfida Oksida tembaga Dysprosium Erbium Europium Galium Gallium Arsenide Gallium Oksida Gadolinium Germanium Germanium Nitrida Germanium Oxide Emas Emas Germanium Paladium emas Timah emas Seng Emas Hafnium Hafnium Carbide Hafnium Nitrida Hafnium Oksida Holmium Inconel Indium Indium oksida Indium Tin Oxide Iridium Besi Oksida besi Memimpin Lanthanum Lanthanum Aluminate Lanthanum Boride Lanthanum Oksida Lanthanum Strontium Cobalt Oxide Lanthanum Mangan Oksida Timbal Oksida Memimpin Titanate Memimpin Zirkonium Titanate Oksida Lithium Lithium Karbonat Lithium Cobalt Oxide Lithium Niobate | Lithium Fosfat Lithium Tantalate Magnesium Magnesium Fluorida Magnesium Monoksida Magnesium oksida Mangan Molibdenum Molibdenum Disulfida Molibdenum Oksida Molybdenum Selenide Molybdenum Silicide Molibdenum Sulfida Neodimium Neodymium Gallium Oxide Neodymium Besi Borida Nikel Kromium nikel Nikel kobalt Nikel oksida Nickel Silicide Nikel Vanadium Niobium Niobium oksida Paladium Platinum Praseodimium Pryolytic Boron Nitrida Renium Rhodium Rutenium Samarium Samarium Cobalt Skandium Scandium Oksida Selenium Silikon Silicon Carbide Silikon dioksida Silikon Monoksida Silikon Nitrida Perak Perak oksida Strontium Bismuth Niobium Oksida | Strontium Bismuth Tantalum Niobium Teropong strontium-doped Strontium Oksida Strontium Titanate Tantalum Tantalum Carbide Tantalum Nitrida Tantalum Oksida Tantalum Silicide Tantalum Sulfida Tellurium Terbium Terbium Besi Thallium Thallium Oxide Thorium Fluorida Thorium Oksida Timah Timah oksida Titanium Titanium Borida Titanium Carbide Titanium Nitrida Titanium Oksida Titanium Silicide Titanium Sulfida Tungsten Tungsten Silicide Tungsten Sulfida Tungsten Titanium Vanadium Vanadium Pent Oxide Itrium Yttrium Barium Copper Oxide Yttrium Oksida Seng Seng oksida Seng Selenide Seng Sulfida Zirkonium Zirkonium Nitrida Zirkonium Oksida Zirkonium silikat Zirkonium Oksida Yttrium Oksida |
Di sini ada tiga faktor yang mempengaruhi kualitas dan fungsionalitas film yang didepositkan oleh Physical Vapor Deposition (PVD): kualitas dan kinerja sumber deposisi, sifat dan struktur bahan pengendapan, dan kinerja intrinsik dan tata letak deposisi sistem dan 'periferal terkaitnya.
Tidak semua bahan setara dalam proses ini karena komposisi kimia dari bahan sumber hanyalah titik awal dari proses spesifik aplikasi yang kuat. Tingkat pengotor, ukuran butiran, struktur / tekstur kristalografi hanyalah beberapa pertimbangan yang secara unik menyesuaikan struktur struktur pengendapan yang sesuai.