Persiapan Pelapis Kuarter (Cr,Ti,Al) N Teknologi Pelapisan Sputtering Magnetron Umum
Aug 27, 2024| Persiapan pelapis kuaterner (Cr,Ti,Al) N dengan teknologi pelapisan sputtering magnetron yang umum
Berdasarkan prinsip dasar dan karakteristik teknis sputtering magnetron, makalah ini memperkenalkan teknologi sputtering magnetron yang umum untuk pembuatan pelapis empat elemen (Cr,Ti,Al) N, menganalisis pengaruh pelapisan deposisi dengan target unsur dan target paduan dan kelebihan dan kekurangannya masing-masing, serta mempelajari pengaruh parameter proses sputtering magnetron terhadap sifat mekanik lapisan (Cr,Ti,Al) N. Pengaruh pelapisan gradien (Cr,Ti,Al) N dan metode pembuatannya dibahas. Tulisan ini dapat memberikan referensi dan pedoman teoritis untuk merancang proses preparasi pelapisan (Cr,Ti,Al)N dan perbaikan sifat pelapisan (Cr,Ti,Al)N.
Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis alat, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, jalur pelapis vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, Email: iks.pvd@foxmail.com