Deposisi Uap Fisik (PVD): Pertumbuhan Film Tipis Didominasi Oleh Proses Fisik

Deposisi uap fisik (PVD): Pertumbuhan lapisan tipis didominasi oleh proses fisik

Inti dari PVD adalah mengubah bahan target padat menjadi partikel gas (atom, molekul, atau ion) melalui cara fisik, lalu menyimpannya di permukaan substrat melalui transpor fase gas untuk membentuk film. Keseluruhan proses tidak melibatkan reaksi kimia apa pun (atau hanya disertai beberapa proses tambahan fisik-kimiawi). Inti dari prosesnya adalah "transformasi keadaan materi + pengendapan uap", yang cocok untuk pembuatan film tipis yang terbuat dari logam, paduan, beberapa keramik, dan bahan lainnya.

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis peralatan, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, jalur pelapisan vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mail: iks.pvd@foxmail.com