Apa prinsip pelapisan vakum PVD yang berwarna-warni?

Apa prinsip pelapisan vakum PVD yang berwarna-warni?

Molecular beam epitaxy banyak digunakan untuk membuat berbagai perangkat terintegrasi optik dan berbagai film super-kisi. Ketika permukaan padat dibombardir dengan partikel berenergi tinggi, partikel pada permukaan padat dapat memperoleh energi dan keluar dari permukaan untuk mengendap di substrat. Sputtering mulai digunakan dalam teknologi pelapisan pada tahun 1870, dan secara bertahap digunakan dalam industri setelah tahun 1930 karena laju deposisi yang meningkat. Bahan yang akan disimpan biasanya dibuat menjadi pelat, target, yang dipasang pada katoda. Substrat ditempatkan pada anoda menghadap permukaan target, beberapa sentimeter dari target. Setelah dipompa ke vakum tinggi, sistem diisi dengan 10 ~ 1 pa gas (biasanya argon), dan beberapa kilovolt diterapkan antara katoda dan anoda, menghasilkan lucutan pijar di antara elektroda. Ion positif yang dihasilkan oleh lepasan terbang ke katoda di bawah aksi medan listrik dan bertabrakan dengan atom di permukaan target. Atom target yang lepas dari permukaan target oleh tumbukan disebut atom sputtering, yang energinya berkisar antara 1 hingga puluhan elektron volt. Atom sputtering disimpan di permukaan substrat untuk membentuk lempeng listrik. Berbeda dengan elektroplating evaporatif, sputtering electroplating tidak dibatasi oleh titik leleh material film dan dapat menggerogoti zat refraktori seperti W, Ta, C, Mo, WC dan TiC. Film senyawa sputtering dapat dibuat dengan sputtering reaktif, di mana gas reaksi (O, N, HS, CH, dll.) Ditambahkan ke dalam gas Ar, dan gas reaksi serta ionnya bereaksi dengan atom target atau atom sputtering untuk menghasilkan senyawa ( seperti oksida, nitrida, dll.) dan mengendap pada substrat. Film isolasi dapat disimpan dengan metode sputtering frekuensi tinggi. Substrat dipasang pada elektroda pembumian, dan target insulasi dipasang pada elektroda yang berlawanan. Catu daya hf dibumikan di salah satu ujungnya dan dihubungkan ke elektroda dengan target isolasi melalui jaringan yang cocok dan kapasitas DC yang terisolasi. Setelah menyalakan catu daya hf, tegangan HF terus-menerus mengubah polaritasnya. Elektron dan ion positif dalam plasma mencapai target isolasi pada setengah siklus tegangan positif dan negatif. Karena mobilitas elektron lebih tinggi dari ion positif, permukaan target isolasi bermuatan negatif. Ketika kesetimbangan dinamis tercapai, target berada pada potensial bias negatif, sehingga percikan ion positif ke target terus berlanjut.

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis perkakas, mahcine pelapis optik, jalur pengikat vakum PVD. Hubungi kami sekarang, E-mail: iks.pvd@foxmail.com