CVD tekanan rendah, LPCVD

CVD tekanan rendah, LPCVD

Deposisi uap kimia tekanan rendah (LPCVD) adalah reaksi CVD yang dirancang untuk mengurangi tekanan operasi gas reaksi selama reaksi deposisi dalam reaktor hingga kira-kira 133Pa. Fitur peralatan LPCVD: Tekanan rendah LPCVD dan lingkungan panas tinggi meningkatkan koefisien difusi gas dan jalur bebas rata-rata di ruang reaksi, dan sangat meningkatkan keseragaman film, keseragaman resistivitas, dan kemampuan menutup dan mengisi alur. Selain itu, di bawah lingkungan bertekanan rendah, laju transmisi bahan gas cepat, dan kotoran serta produk sampingan reaksi yang menyebar dari substrat dapat dengan cepat dikeluarkan dari zona reaksi melalui lapisan batas, sedangkan gas reaksi dapat dengan cepat mencapai permukaan substrat melalui lapisan batas untuk reaksi. Oleh karena itu, self-doping dapat dihambat secara efektif dan efisiensi produksi dapat ditingkatkan. Selain itu, LPCVD tidak memerlukan gas pembawa, sehingga sangat mengurangi sumber polusi partikel. Ini banyak digunakan dalam industri semikonduktor dengan nilai tambah tinggi, seperti pengendapan film tipis. Arah pengembangan baru peralatan LPCVD: tegangan rendah, multifungsi. Untuk banyak bahan mesin mikro yang umum digunakan, seperti silikon nitrida dan polisilikon, tekanan tidak dapat dihindari. Dalam beberapa proses MEMS presisi, tekanan film rendah diperlukan untuk memastikan deformasi perangkat kecil. (1) Melalui desain unik jalur udara dan struktur rongga serta formula proses yang sesuai, tegangan film dapat dikontrol dalam rentang yang luas dengan sukses, dan masalah deformasi, perubahan sifat optik dan mekanik yang disebabkan oleh adanya tegangan film terpecahkan. (2) Memenuhi persyaratan pelanggan untuk proses pirolisis tekanan rendah TEOS dan proses polisilikon dengan tingkat pembentukan film yang berbeda, dan memastikan keseragaman pembentukan film dan tingkat kelengkungan wafer silikon. (3) Peralatan LPCVD multi-fungsi memiliki teknologi unik dibandingkan dengan cara tradisional, Termasuk keseragaman dan pengulangan proses film yang baik, sistem filtrasi unik untuk memastikan kebersihan yang baik dan perawatan kamar dan perangkat yang mudah, teknologi kontrol partikel canggih, suhu presisi tinggi kontrol lapangan dan pengulangan suhu yang baik, antarmuka otomasi pabrik lengkap, algoritme akuisisi data berkecepatan tinggi, dll. Pada saat yang sama, ia memiliki pengalaman industri yang kaya dan proses pendukung yang matang untuk memenuhi permintaan pelanggan akan peralatan LPCVD kelas atas

Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis alat, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, garis pelapis vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, Email:iks.pvd@foxmail.com