Bagaimana membantah PVD proses kerja dalam lapisan vakum
Aug 13, 2020| Bagaimana membantah PVD proses kerja dalam lapisan vakum
Teknik PVD (Physical Vapor Deposition) adalah salah satu teknologi utama penyusunan bahan film tipis, di bawah kondisi vakum dengan metode fisik, beberapa gasifikasi material ke atom gas, molekul atau ion ionisasi parsial, dan melalui proses gas bertekanan rendah (atau plasma), deposisi dengan anti-refleksi, mencerminkan pada permukaan bahan substrat, melindungi konduktif, permeabilitas, isolasi, ketahanan korosi , ketahanan oksidasi, proteksi radiasi, dekorasi dan sebagainya fungsi khusus dari teknologi bahan film tipis. Zat yang digunakan untuk menyiapkan bahan film tipis disebut bahan pelapis PVD. Setelah bertahun-tahun pembangunan, teknologi pelapisan PVD telah banyak digunakan di bidang elektronik, optik, mesin, konstruksi dan bahan, dll. Bantah lapisan dan vakum penguapan lapisan adalah dua metode pelapisan yang paling mainstream PVD.
IKS PVD perusahaan, Mesin pelapis dekoratif, alat coating Mesin, lapisan optik mahcine, PVD garis vakum coting. Hubungi kami sekarang, E-mail: iks.pvd@foxmail.com