Deposisi Uap Kimia DLC
May 28, 2024| DLC Deposisi Uap Kimia (CVD) dan Deposisi Uap Kimia yang Ditingkatkan Plasma (PECVD) Deposisi uap kimia adalah metode pertumbuhan reaksi fase kimia. Ini adalah untuk melewatkan beberapa senyawa atau gas reaksi unsur ke dalam ruang reaksi, terurai, desorpsi, dan bergabung pada antarmuka gas-padat untuk menghasilkan film padat yang seragam. Metode utama deposisi uap kimia adalah tekanan atmosfer, deposisi uap kimia suhu tinggi dan rendah di bawah tekanan rendah, deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD), deposisi uap kimia berbantuan plasma (PVCD), dan deposisi uap kimia laser (LCVD). ). Yang utama adalah deposisi uap kimia dengan bantuan plasma.
Perusahaan IKS PVD, mesin pelapis dekoratif, mesin pelapis alat, mesin pelapis DLC, mesin pelapis optik, jalur pelapis vakum PVD, proyek turn-key tersedia. Hubungi kami sekarang, Email: iks.pvd@foxmail.com