Fitur Coating Mesin Ion Vacuum Plating

Dibandingkan dengan mesin pelapisan penguapan dan mesin pelapisan sputtering, mesin pelapisan ionisasi dicirikan oleh fakta bahwa ion bermuatan membombardir substrat dan lapisan film saat penyetoran. Serangkaian efek yang dihasilkan oleh penembakan ion energik memiliki poin utama berikut:

1. Kekuatan ikatan film / basa (adhesi) kuat dan lapisan film tidak mudah rontok. Karena efek sputtering dari ion bombardment pada substrat, substrat dibersihkan, diaktifkan dan dipanaskan, yang dapat menghilangkan gas yang teradsorpsi dan lapisan kontaminasi pada permukaan substrat, dan oksida pada permukaan substrat juga dapat dihapus. Pemanasan dan cacat yang disebabkan oleh bombardir ion dapat meningkatkan efek difusi substrat. Ini tidak hanya meningkatkan sifat mikro dan kristalisasi lapisan permukaan substrat, tetapi juga menyediakan kondisi untuk pembentukan paduan. Selain itu, penembakan ion energi yang lebih tinggi juga dapat menghasilkan implan ion tertentu dan efek pencampuran ion ion.

2. Mesin pelapisan ion memiliki sifat difraksi yang baik. Dalam pelapis lampu, ion atau molekul uap terionisasi yang menguap pada tekanan tinggi (≥1Pa) akan mengalami beberapa tabrakan molekul gas dalam perjalanan ke substrat. Oleh karena itu, partikel-partikel film dapat tersebar di sekitar substrat. Ini meningkatkan cakupan film. Selain itu, ion-ion membran terionisasi dari suatu pelapis ion multi-busur juga dapat disimpan oleh pembangkit listrik pada setiap posisi pada permukaan substrat tegangan negatif. Oleh karena itu, titik pelapisan evaporasi ini tidak dapat dicapai.

3. Kualitas pelapisan tinggi. Sebagai penembakan ion dapat meningkatkan kepadatan film, mesin pelapisan sputter dapat meningkatkan struktur film, yang membuat keseragaman film yang baik, mikrostruktur lapisan kompak, dan sedikit lubang kecil dan gelembung. Karena itu, kualitas lapisan film ditingkatkan.

4. Tingkat deposisi tinggi dan kecepatan pembentukan film cepat, dan film tebal 30 μm dapat disiapkan.

5. Bahan substrat dan bahan pelapis yang diterapkan pada lapisan relatif luas. Sangat cocok untuk melapisi logam, senyawa dan bahan non-logam pada permukaan logam atau non-logam, seperti baja, logam non-besi, kuarsa, keramik, plastik dan bahan lainnya. Karena aktivitas plasma bermanfaat untuk mengurangi suhu sintesis senyawa, mesin pelapisan ion multi-busur karenanya dapat dengan mudah melapis dengan berbagai film kompaksi keras dengan pelapisan ion.

Karena karakteristik di atas, mesin pelapisan ion memiliki berbagai aplikasi. Teknologi ion plating dapat digunakan untuk melapisi logam, paduan, bahan konduktif dan bahkan bahan non-konduktif. Film yang disimpan oleh mesin pelapisan multi-busur dapat berupa film logam, film multi-paduan dan film senyawa, yang dapat dilapisi dengan lapisan tunggal atau lapisan komposit, dan juga dapat disepuh dengan lapisan gradien dan nano lapisan -multilayer. Dengan bahan membran yang berbeda, gas reaksi yang berbeda dan metode proses dan parameter yang berbeda, adalah mungkin untuk mendapatkan lapisan tahan aus keras yang diperkeras di permukaan, lapisan tahan korosi yang stabil secara kimiawi, lapisan pelumas padat, dan berbagai lapisan dekoratif warna, dan khusus pelapis fungsional untuk elektronik, optik, dan ilmu energi dan sebagainya. Teknologi pelapisan ion dan produk pelapisan lapisan ion telah banyak diterapkan.